金融投资报：中芯国际只是“备胎” 自主可控还需攻坚克难

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SMIC(港股00981)a股首次公开募股被接受的消息，为长期调整的科技行业注入了一剂强心针，尤其是半导体芯片行业，该行业经历了一轮久违的集体飙升。

SMIC是世界第三大芯片代工制造商，其意义在于，即使我们不能委托TSMC和三星生产芯片，SMIC仍然是“备胎”。目前，TSMC和三星的技术水平已经实现了7纳米工艺的产业化，华为高端麒麟芯片几乎全部由TSMC生产。单芯片来看，7纳米工艺的芯片尺寸是14纳米工艺的一半，效率可以提高20%以上，但能耗可以降低40%。此外，当芯片面积较小时，手机的空空间会较大，通过加入其他配件可以提高整体性能。

然而，SMIC目前的技术水平是14纳米工艺的产业化，目前正在攻克10纳米技术。也就是说，即使SMIC能与华为签约，它也只能是一个拥有14纳米技术的低端芯片。如果只有SMIC的14纳米芯片可用，华为的手机性能将比苹果及其使用高通芯片的国内竞争对手低几个等级。

从另一个角度来看，SMIC是一个彻头彻尾的中国企业，但它也有一个棘手的问题，即其所有的核心设备和原材料基本上都来自欧美和日本，这意味着它不能绕过瓦塞纳尔协议，这就是为什么SMIC仍然不能得到asml的极紫外光刻机，所有的7纳米芯片只能通过极紫外光刻机实现。即使不是极紫外光刻机，SMIC asml的其他光刻机以及美国的一些核心设备和原材料也将受到各种限制。

目前，国内也有技术含量较低的光刻机，即上海微电子90纳米光刻机，可以实现低端芯片的生产。中国顶级光刻曝光系统是集成电路设备专项(02专项)的28纳米曝光系统。技术承担者是中国科学院长春光学与力学研究所，该研究所于两三年前建成。最近，有传言说上海微电子将批量生产22纳米光刻机，这应该是这项技术的产业化。长光研究所唯一的上市公司奥普光电(002338)最近在回答投资者的提问时透露，长光研究所的大股东长光研究所已经在开发技术水平更高的光刻曝光系统。

因此，我们不需要神话·SMIC。要想真正实现更高水平的自主可控进口替代，必须率先在国内替代技术水平更高的上游设备和原材料。否则，它要么使用落后的国际技术，要么总是担心被制裁。摆脱对核心技术依赖的关键是“解决问题”和“解决问题”，突破半导体设备和原材料的高科技自主可控进口替代，从而实现高科技芯片制造不受制于人。